磁控溅射靶材―Sputtering Targ...
服务宗旨
产品分析
产品名称 name
熔点℃ melting
纯度(≮%) purity
主要杂质含量(≯%) foreign matter
产品规格 specification
五氧化二钽(ta2o5)
1880
99.99
fe:0.002 si:0.001 si:0.005
ni:0.003 mn:0.001 sn:0.005
cr:0.001 cu:0.001 w:0.001
片状
颗粒 靶材
二氧化钛(tio2)
1800
fe:0.005 si:0.001
ni:0.002 mn:0.001
cr:0.001 cu:0.001
片状 颗粒 靶材
二氧化锆(zro2)
2700
fe:0.002 mg:0.001
ni:0.001 mn:0.001