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磁控溅射靶材―Sputtering Targ...

服务宗旨

  产品分析                                                          

产品名称
name

熔点℃
melting

纯度(≮%)
purity

主要杂质含量(≯%)
foreign matter

产品规格
specification

五氧化二钽(ta2o5)

 

1880

99.99

fe:0.002
si:0.001
si:0.005

ni:0.003
mn:0.001
sn:0.005

cr:0.001
cu:0.001
w:0.001

片状

颗粒
靶材

二氧化钛(tio2)

 

1800

99.99

fe:0.005
si:0.001

ni:0.002
mn:0.001

cr:0.001
cu:0.001

片状
颗粒
靶材

二氧化锆(zro2)

 

2700

99.99

fe:0.002
mg:0.001

ni:0.001
mn:0.001

cr:0.001
cu:0.001

片状
颗粒
靶材

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